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中國“芯”之痛:專家稱5年內解決高端芯片問題

2018-04-23 09:24  來源:財經365綜合 本篇文章有字,看完大約需要 分鐘的時間

來源:財經365綜合

據人民日報報道,專家稱,中國在高端光電子器件部分關鍵技術研發取得突破:“這些研發項目有很多都是前瞻布局的,中興通訊此次受到限制的所有芯片,在十二五和十三五國家研究計劃中,都有相應的部署。”

4月16日,美國商務部公布,由于中興通訊違反和解協議并作出虛假陳述,將禁止美國企業與公司進行交易長達7年。中興通訊董事長殷一民表示,美國對中興實施的禁令,或將導致公司進入休克狀態。

(視覺中國)

據《人民日報》報道,十三五國家重點研發計劃“光電子與微電子器件及集成”重點專項專家組組長、中科院半導體所副所長祝寧華表示,中國近年來不間斷地支持光電子領域的科技創新,投入大量資金引導大專院校、科研院所和企業,鉆研對光電子芯片和模組的關鍵技術:“當前我國已掌握中低端光電子器件關鍵技術,具備生產能力,但產能不足。在高端光電子器件研發方面,一些關鍵技術取得突破性進展,研制成功的原型器件通過系統功能驗證,某些關鍵技術達到國際先進水準。”

通過國家引導、地方和企業的參與

祝寧華說,在光傳輸和交換設備中,光器件要占百分之六七十的成本比重,當前中國無論在技術積累還是資金投入,以及高端核心人才的培養和儲備,都具備一定基礎條件:“只要國家選定面向未來資訊網路急需的1—2類核心關鍵光電子芯片,集中資源,從設計、研發、器件制備到封裝測試進行綜合布局,同時通過國家引導、地方和企業的參與,構建完善的光電子芯片加工工藝平臺,相信高端芯片研發的短板能夠在5年內得到緩解。”

相關研發項目已持續10年

據知,中國于2008年實施國家科技重大項目:“極大型積體電路制造裝備及成套工藝”,官方稱經十年發展,相關工藝水平提升了5代,成功研發并實現量產55、40 、28納米三代成套工藝,于22、14納米先導技術研發取得突破,并已研制成功14納米刻蝕機、薄膜沉積等30多種高端裝備和靶材、拋光液等上百種材料產品,性能達到國際先進水準。

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